УСТАНОВКА ПЛАЗМО-ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ (ECR-PECVD)

«SEIKI TECHNOTRON CORP.» AX5200-ECR

 

 

Используется для выращивания алмазных пленок и углеродных нанотрубок методом химического осаждения из газовой фазы CVD.

 

Технические характеристики:

Рабочие вещества

метан, силан

Микроволновый генератор

2.54 G 1,5 Kw

Максимальная температура столика

900 °С

Диаметр подложки

12,7 см

Фоновый вакуум

10-8 ммт.ст.